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蘭州真空應(yīng)邀參加第十八屆國(guó)際真空大會(huì)暨真空展覽會(huì)

作者:蘭州真空時(shí)間:2010-09-15點(diǎn)擊:1278次

第十八屆國(guó)際真空大會(huì)暨真空展覽會(huì)每三年舉辦一次的《國(guó)際真空科技大會(huì)》(The International Vacuum Congress ,簡(jiǎn)稱(chēng) IVC) 是“國(guó)際真空科技與應(yīng)用聯(lián)盟”(IUVSTA)組織舉辦的科技水平最高、參加會(huì)議人數(shù)最多的大型國(guó)際學(xué)術(shù)會(huì)議。會(huì)議討論與交流的內(nèi)容涵蓋了真空科技、表面科技、納米科技、信息科技和薄膜材料等領(lǐng)域,是展示國(guó)際真空領(lǐng)域最新研究成果的高水平有影響力的重要學(xué)術(shù)盛會(huì)。會(huì)議同期還舉辦真空技術(shù)及儀器設(shè)備展覽會(huì)。

公司領(lǐng)導(dǎo)親臨展會(huì)

    本屆展覽會(huì)的展示內(nèi)容主要是真空科技、表面科學(xué)、應(yīng)用表面科學(xué)、薄膜、電子材料及工藝、表面工程、等離子科技、納米科學(xué)技術(shù)等當(dāng)前最熱門(mén)的前沿、高科技領(lǐng)域;真空科學(xué)技術(shù)在機(jī)械、電子、冶金、航空、航天、輕工、化工、食品、醫(yī)藥、衛(wèi)生、印刷、建筑和裝飾等各個(gè)領(lǐng)域中的應(yīng)用項(xiàng)目以及與真空技術(shù)有關(guān)的新工藝、新材料和新產(chǎn)品。

現(xiàn)場(chǎng)溝通

    蘭州真空作為國(guó)內(nèi)真空行業(yè)知名企業(yè)參加了本次盛會(huì),公司展臺(tái)以真空獲得、真空鍍膜、真空熱處理、真空專(zhuān)用、低溫設(shè)備及空間模擬裝置為主,集合了一批具有自主創(chuàng)新、新亮點(diǎn)的產(chǎn)品,展會(huì)期間蘭州真空展臺(tái)里吸引了眾多參觀者,行業(yè)人士對(duì)蘭州真空近年來(lái)所取得的優(yōu)異成果表示贊賞,尤其對(duì)蘭州真空在國(guó)家重點(diǎn)及專(zhuān)業(yè)領(lǐng)域里所做出的貢獻(xiàn)備受鼓舞,深感自豪。